GE品牌的edi模塊在運行過程中被水中的懸浮物長時間污染導致堵塞，這個時候就需要對超純水設備中的edi模塊進行清洗處理。今天就和大家介紹一下GE品牌的edi模塊化學清洗的操作方法。
超純水設備中ge edi模塊的化學清洗操作
GE EDI設備的化學清洗及再生，膜塊堵塞的原因主要有下面幾種式：顆粒/膠體污堵無機物污堵有機物污堵微生物污堵。清洗方法時間(分)備注：酸洗30-60分、堿洗30-60分、鹽水清洗5-30分、消毒25-40分、沖洗50分。
GE EDI模塊化學清洗操作步驟：
1、按停機程序關閉GE EDI模塊，關閉模塊上的所有閥門。
2、將清洗模塊進出口和GE EDI模塊清洗進出口連接，打開GE EDI清洗進出口閥門。
3、在清洗溶液箱中按配方配制好清洗溶液，并充分攪拌使其混合均勻。
4、啟動清洗水泵，緩慢打開清洗水泵出口閥，控制每個膜組件200~500L/h的流量讓清洗溶液進入膜組件，并返回清洗溶液箱中。循環(huán)清洗時間為30~60min。
5、將清洗溶液箱和清洗過濾器放空，并用清水沖洗干凈。
6、在清洗溶液箱內注入RO產水，用RO產水循環(huán)沖洗GE EDI模塊15min。GE EDI模塊
7、關閉GE EDI模塊清洗進出口閥門，斷開和清洗模塊的連接，排空清洗溶液箱和清洗過濾器，并用清水沖洗干凈。
8、打開GE EDI模塊的進水閥、濃水排放閥和產水排放閥，沖洗至進水和出水的電導率差值(高出之值)較小。
9、返回生產運行狀態(tài)，進行再生。
GE edi模塊化學清洗劑藥液配置：
1.酸洗溫度15-25℃
2.堿洗溫度25-30℃3.配藥液用水必須是RO產水或高于RO產水的去離子水;1.0t/h 80L，2.0t/h 110L，3.0t/h 150L，5.0t/h 200L，對于膜塊數(shù)量大于1塊時，按表中配液的數(shù)量乘以膜塊數(shù)量。GE EDI設備膜塊的再生：確認GE EDI膜塊內沒有任何的化學藥品殘留存在。使系統(tǒng)構建成一個閉路自循環(huán)管路。按照正常運行的模式調節(jié)好所有的流量和壓力。給GE EDI送電，調節(jié)電流從1A開始分步緩慢向GE EDI加載電流(最大不能超過6A)。直至產水電阻率達工藝要求到。提示：膜塊的再生是一個比較長的時間，有時可能會長達10-24小時甚至更長的時間。
GE EDI模塊清洗操作時的注意事項有哪些？
1、在進行化學清洗時，必須保證整流器輸入輸出電源處于關閉狀態(tài)。
2、清洗藥劑均具有強腐蝕性，操作時應穿戴全套防護用品，避免和藥劑直接接觸。
4、GE EDI組件清洗后必須經過再生才能投入正常使用。
5、必要時可采用多種清洗劑清洗，且每次清洗后，應排盡清洗劑，用GE EDI進水將系統(tǒng)沖洗干凈，才可再用另一種清洗劑清洗。
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